Вафля, чтобы биться: отображение рентгена для уменьшенной скорости дефектообразования
Даже несколько дислокаций в кремниевых вафлях могут привести к дефектным компьютерным микросхемам и, следовательно, к нежеланному производству отклоняет. «Поэтому важно понять, как незначительный механический поверхностный дефект размножается в глубину кристалла под типичными воздействиями процесса, такими как тепло», говорит доктор Дэниел Хэншк, физик Института КОМПЛЕКТА Радиации Науки и Синхротрона Фотона. …
Вафля, чтобы биться: отображение рентгена для уменьшенной скорости дефектообразованияПодробнее »